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命題方式 | 招生單位自命題 | 科目類別 | 初試 |
滿分 | 150 | ||
考試性質 | |||
考試方式和考試時間 | |||
試卷結構 | |||
考試內容和要求 | |||
(一)輻射度學與光度學 | |||
輻射度學基本概念與光度學參數。 | |||
(二)激光原理與技術 | |||
(1)光與物質相互作用理論,激光產生條件與基本結構; | |||
(2)激光器基本原理; | |||
(3)激光技術:脈沖技術、選模技術、鎖模技術、穩頻技術、倍頻技術等。 | |||
(4)高斯光束:特性,高斯光束的準直、聚焦與模式匹配,用q參數、ABCD定則分析高斯光束。 | |||
(三)光傳輸理論與技術 | |||
(1)平面介質光波導理論(射線分析與波動分析); | |||
(2)光纖傳播理論與基本特性; | |||
(3)光在電光、聲光以及磁光晶體中的傳播。 | |||
(四)光調制技術 | |||
(1)光輻射調制方法; | |||
(2)電光調制技術:強度調制(縱向與橫向)、位相調制(縱向與橫向)、電光偏轉技術 | |||
(3)聲光調制技術:拉曼奈斯衍射、布拉格衍射,聲光調制原理,聲光調制器衍射效率分析; | |||
(4)磁光調制技術:旋光效應與磁光效應,法拉第效應,磁光調制器與光隔離器。 | |||
(五)光電探測技術 | |||
(1)光電探測器參數、光電探測方式; | |||
(2)光電探測的物理效應; | |||
(3)常見光電探測器的基本結構與參數。 | |||
(六)光電成像與顯示技術 | |||
(1)光電成像原理,CCD成像技術; | |||
(2)液晶顯示技術、等離子體顯示技術、LED顯示技術、電致與場致發光顯示技術 | |||
參考書目 | |||
《光電子技術基礎(第二版)》,朱京平著,科學出版社,2009。 |
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